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第一百二十章 吹牛皮(第1页)

审判场上

看着缓慢加载进度的叶四海,他的心头浮现出了一抹难言的紧张之色。

这份文件,真的会是当初自己看到的那份光科技技术图纸吗?

当年发生的一切,真的像是江逸所说的一样吗?

望着加载进度越来越接近“100%”叶四海能感觉到自己的心跳声越来越快,越来越急促!

“90%。。。91%。。。92%。。。93%。。。”

叶四海突然望了一眼身旁的黑衣男子,打量着他的身形,叶四海突然感到了一抹眼熟。

他已经知道了对方的身份,是当年的国安局成员孙维,也是冒死将光刻机技术图纸送回国内的那个人!可是,自己究竟是在什么地方,见过他呢?

叶四海感觉自己好像想起了什么,然而具体是什么,却又说不出来。

这种抓不住思绪的感觉,让他有些迷茫。

终于。

“99%。。。。100%!”

在迟迟等待了许久之后,漫长的文件加载时间,总算是走到了尾声!

伴随着“100%”这个数字出现在了屏幕上,这份文件的全貌,一览无余地摆在了叶四海的面前!而在看到他的第一眼,叶四海的瞳孔便是瞬间一震!

他的表情,也是骤然变了!

“为了实现3nm工艺,光刻机需要使用极紫外(EUV)光源,其波长为13。5nm,比目前使用的193nm光源短了14倍。”

“EUV光源可以提供更高的分辨率和更低的线边粗糙度,但也带来了更多的技术挑战,如光源稳定性、光学元件损耗、掩模缺陷等。此外,3nm工艺还需要采用多重曝光(MEP)和自对准四极(SAQP)等方法,以实现更细致的图案划分和对齐。。。。”

叶四海的语速越来越快,声音也变得越来越急促!

“我设想出了一种基于EUV光源和MEP+SAQP方法的3nm光刻机技术方案,首先采用基于激光产生等离子体(LPP)的EUV光源,其功率达到250W,可满足每小时曝光2000片硅片的需求。”

“同时,采用闭环反馈控制系统,实时监测和调节光源参数,保证其稳定性和均匀性。。。”

“咕嘟!”

他吞咽了一口唾沫,愣愣地说道:

“一样!”

“真的一样!跟我当年看到的那份技术图纸,一模一样!就是它!”

这些数据,这些详细到了每一个工业零件的技术图纸,叶四海魂牵梦绕了无数年,只需要第一眼,他便瞬间认了出来!

就是它!

是它,让龙国的半导体行业坐上了火箭,在这些年来以恐怖的速度高速发展着!

是它,让龙国的芯片业、高端工业不用再受到其他国家的卡脖子威胁,而是能尽情地发挥着自己的长处、优势!

看到了叶四海的激动反应,吴将军也是身躯一震。

“叶所长,这份文件跟当年您看到的那一份,一样吗?”

吴将军迅速问道。

“一样!几乎一模一样!”

叶四海一边飞速地浏览着剩下的内容,一边激动地回答道!

“几乎?”

吴将军却是微微一愣。

对于叶四海这样的高端科学家来说,用词、用量,几乎都是一个很精确的值,这个几乎的意思是。。。。

“数据部分,一模一样。”

“但是,缺了一句话。那句话,应该是我兄长留给我的。。。”

叶四海将文件拉到了最底处!

果然,在这份u盘中,并没有之前他看到的那一句来自叶九洲院士的最后遗言!

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