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第一百二十章 吹牛皮（第1页）

审判场上

看着缓慢加载进度的叶四海，他的心头浮现出了一抹难言的紧张之色。

这份文件，真的会是当初自己看到的那份光科技技术图纸吗？

当年发生的一切，真的像是江逸所说的一样吗？

望着加载进度越来越接近“100%”叶四海能感觉到自己的心跳声越来越快，越来越急促！

“90%。。。91%。。。92%。。。93%。。。”

叶四海突然望了一眼身旁的黑衣男子，打量着他的身形，叶四海突然感到了一抹眼熟。

他已经知道了对方的身份，是当年的国安局成员孙维，也是冒死将光刻机技术图纸送回国内的那个人！可是，自己究竟是在什么地方，见过他呢？

叶四海感觉自己好像想起了什么，然而具体是什么，却又说不出来。

这种抓不住思绪的感觉，让他有些迷茫。

终于。

“99%。。。。100%！”

在迟迟等待了许久之后，漫长的文件加载时间，总算是走到了尾声！

伴随着“100%”这个数字出现在了屏幕上，这份文件的全貌，一览无余地摆在了叶四海的面前！而在看到他的第一眼，叶四海的瞳孔便是瞬间一震！

他的表情，也是骤然变了！

“为了实现3nm工艺，光刻机需要使用极紫外（EUV）光源，其波长为13。5nm，比目前使用的193nm光源短了14倍。”

“EUV光源可以提供更高的分辨率和更低的线边粗糙度，但也带来了更多的技术挑战，如光源稳定性、光学元件损耗、掩模缺陷等。此外，3nm工艺还需要采用多重曝光（MEP）和自对准四极（SAQP）等方法，以实现更细致的图案划分和对齐。。。。”

叶四海的语速越来越快，声音也变得越来越急促！

“我设想出了一种基于EUV光源和MEP+SAQP方法的3nm光刻机技术方案，首先采用基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源，其功率达到250W，可满足每小时曝光2000片硅片的需求。”

“同时，采用闭环反馈控制系统，实时监测和调节光源参数，保证其稳定性和均匀性。。。”

“咕嘟！”

他吞咽了一口唾沫，愣愣地说道：

“一样！”

“真的一样！跟我当年看到的那份技术图纸，一模一样！就是它！”

这些数据，这些详细到了每一个工业零件的技术图纸，叶四海魂牵梦绕了无数年，只需要第一眼，他便瞬间认了出来！

就是它！

是它，让龙国的半导体行业坐上了火箭，在这些年来以恐怖的速度高速发展着！

是它，让龙国的芯片业、高端工业不用再受到其他国家的卡脖子威胁，而是能尽情地发挥着自己的长处、优势！

看到了叶四海的激动反应，吴将军也是身躯一震。

“叶所长，这份文件跟当年您看到的那一份，一样吗？”

吴将军迅速问道。

“一样！几乎一模一样！”

叶四海一边飞速地浏览着剩下的内容，一边激动地回答道！

“几乎？”

吴将军却是微微一愣。

对于叶四海这样的高端科学家来说，用词、用量，几乎都是一个很精确的值，这个几乎的意思是。。。。

“数据部分，一模一样。”

“但是，缺了一句话。那句话，应该是我兄长留给我的。。。”

叶四海将文件拉到了最底处！

果然，在这份u盘中，并没有之前他看到的那一句来自叶九洲院士的最后遗言！